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其他行業(yè)應(yīng)用專(zhuān)題 | 高壓微射流均質(zhì)機(jī)在MLCC行業(yè)的應(yīng)用

 更新時(shí)間:2026-01-14  點(diǎn)擊量:189

介紹

本文隸屬于其他行業(yè)應(yīng)用專(zhuān)題,全文共 3724 字,閱讀大約需要 10 分鐘


摘要:電子設(shè)備向微型化、高性能化發(fā)展,MLCC性能升級(jí)受傳統(tǒng)分散設(shè)備制約。本文聚焦高壓微射流均質(zhì)機(jī),其借高壓射流、剪切效應(yīng)實(shí)現(xiàn)物料納米級(jí)分散,解決傳統(tǒng)設(shè)備痛點(diǎn),覆蓋MLCC漿料制備等場(chǎng)景,優(yōu)化產(chǎn)品性能。未來(lái)設(shè)備向連續(xù)化、高精度升級(jí),為MLCC行業(yè)破瓶頸、助電子產(chǎn)業(yè)升級(jí),供企業(yè)選型參考。


關(guān)鍵詞:MLCC;高壓微射流均質(zhì)機(jī);漿料制備;電子元件;性能優(yōu)化




一、MLCC行業(yè)的“痛點(diǎn)":從漿料開(kāi)始的性能博弈



在電子設(shè)備向 “更小、更薄、更高性能" 邁進(jìn)的浪潮中,作為電子電路核心元件的MLCC(多層陶瓷電容器) 正迎來(lái)技術(shù)挑戰(zhàn)。從5G基站、新能源汽車(chē)到智能手機(jī),每一臺(tái)精密設(shè)備對(duì)MLCC的容量、可靠性、尺寸要求都在不斷升級(jí),而這一切的突破,都離不開(kāi)上游生產(chǎn)環(huán)節(jié)的 “隱形功臣"——高壓微射流均質(zhì)機(jī)。

今天,我們就來(lái)深入聊聊這臺(tái) “設(shè)備背后的設(shè)備",看看它如何通過(guò)技術(shù)革新,為MLCC行業(yè)破解生產(chǎn)難題,助力電子產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。

片式多層陶瓷電容器(Multi Layer Ceramic Capactitor,簡(jiǎn)稱(chēng)MLCC),被廣泛應(yīng)用于通信設(shè)備、計(jì)算機(jī)、汽車(chē)電子、家電等領(lǐng)域,是目前所有電子產(chǎn)品中使用數(shù)量最多的元器件之一,其特性會(huì)直接影響電路乃至整個(gè)電子產(chǎn)品的功能,因此對(duì)其性能要求也越來(lái)越苛刻。[1]

MLCC的生產(chǎn)流程復(fù)雜,涵蓋漿料制備、流延、疊層、燒結(jié)等數(shù)十道工序,其中漿料制備是決定最終產(chǎn)品性能的 “關(guān)卡"。


圖1:MLCC工藝流程

(資料來(lái)源:村田,申萬(wàn)宏源研究)


MLCC內(nèi)電極漿料的主要是由金屬粉體、無(wú)機(jī)粉體及有機(jī)載體3個(gè)部份組成。其中內(nèi)電極生產(chǎn)所用的粉體材料要求純度高、粉體顆粒近球形、粒徑小及分散性好。良好的分散可以使?jié){料具有合適的流動(dòng)性,從而在印刷過(guò)程中形成清晰、均勻的圖案。[2]

陶瓷漿料是多層陶瓷電容器(MLCC)的基礎(chǔ)原料之一,用于形成多層陶瓷電容器的介電層。用于制備超薄介質(zhì)膜片的陶瓷漿料顆粒是納米級(jí)的,很容易團(tuán)聚。團(tuán)聚顆粒嚴(yán)重破壞了漿料的分散效果,惡化 MLCC的電性能。高效分散處理可有效提升陶瓷漿料的均勻性。[3]


圖2:MLCC結(jié)構(gòu)圖


金屬粉體、無(wú)機(jī)粉體的粒度需與 MLCC 微型化、高性能需求精準(zhǔn)匹配。金屬粉體(主流為鎳粉)方面,MLCC(如 0201 尺寸)多采用亞微米級(jí)(300~800 nm) 粉體,其比表面積適中(1~5 m2/g),既能通過(guò)分散劑實(shí)現(xiàn)單分散以保證漿料黏度穩(wěn)定,又能在共燒溫度下致密化,適配 10~20 μm 的精細(xì)電極線寬.[4] 

無(wú)機(jī)粉體(以硼硅酸鹽玻璃粉為主)需略小于金屬粉體,主流為亞微米級(jí)(200~600 nm) ,可充分填充金屬粉體間隙,熔融后形成均勻過(guò)渡層,提升 MLCC 耐壓性與抗熱震性。

因此,在生產(chǎn)過(guò)程中,必須嚴(yán)格控制內(nèi)電極漿料的分散質(zhì)量。為得到分散效果好的印刷漿料,上機(jī)印刷前一般會(huì)進(jìn)行慢磨分散,使得分散劑對(duì)納米粉體實(shí)現(xiàn)表面覆蓋,能均勻包裹粉體,在溶劑中形成較大的保護(hù)空間,使粉體在溶液中穩(wěn)定分散。

無(wú)論是陶瓷粉體與粘結(jié)劑的混合,還是電極材料的分散,都對(duì)漿料的“均勻性、穩(wěn)定性、細(xì)度"有著嚴(yán)苛要求:


  • 若粉體分散不均,會(huì)導(dǎo)致流延膜厚度偏差,最終引發(fā)MLCC容量一致性差;

  • 若顆粒團(tuán)聚未被打散,燒結(jié)后易產(chǎn)生內(nèi)部孔隙,直接影響產(chǎn)品耐壓性與壽命;

  • 若粘結(jié)劑分布不均,會(huì)造成疊層時(shí)層間結(jié)合力不足,增加開(kāi)裂風(fēng)險(xiǎn)。


傳統(tǒng)的攪拌、研磨設(shè)備(如球磨機(jī))雖能完成基礎(chǔ)分散,但面對(duì)如今MLCC向“超多層、超薄介質(zhì)層"(部分產(chǎn)品介質(zhì)層厚度已小于1μm)的發(fā)展趨勢(shì),早已力不從心 —— 不僅分散效率低、易引入雜質(zhì),更難以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)別的均勻分散,成為制約MLCC性能提升的 “瓶頸"。


圖3:未高效分散處理的

瓷生胚膜片表面的SEM

圖4:高效分散處理的陶瓷

生胚膜片表面的SEM





二、高壓微射流均質(zhì)機(jī):用 “流體力學(xué)" 破解分散難題



微射流均質(zhì)機(jī)借助超高壓流體噴射對(duì)撞剪切作用,能很好實(shí)現(xiàn)物料(尤其是納米/亞微米級(jí)顆粒)的超精細(xì)、均勻分散,有效攻克傳統(tǒng)分散工藝中普遍存在的顆粒團(tuán)聚、粒徑分布寬、批次穩(wěn)定性差等核心痛點(diǎn)。它是保障陶瓷介質(zhì)漿料分散質(zhì)量的核心技術(shù)環(huán)節(jié)。[5]

同時(shí)規(guī)?;a(chǎn)型微射流均質(zhì)機(jī)具備24小時(shí)連續(xù)工作、壓力穩(wěn)定性好、靈活可調(diào)的單/多通道對(duì)撞模式、PLC全自動(dòng)控制等幾大優(yōu)勢(shì),在實(shí)際行業(yè)應(yīng)用中表現(xiàn)優(yōu)異,反饋良好,為高效、穩(wěn)定的規(guī)?;a(chǎn)提供了堅(jiān)實(shí)保障。

它的核心邏輯是“以流體剪切替代機(jī)械研磨":將漿料加壓至數(shù)百兆帕(相當(dāng)于深海數(shù)千米的壓力),隨后通過(guò)特殊設(shè)計(jì)的微通道(直徑僅幾十微米),使?jié){料產(chǎn)生高速射流、剪切、碰撞與空化效應(yīng)。在這一系列物理作用下,團(tuán)聚的顆粒被瞬間打散,物料實(shí)現(xiàn)分子級(jí)別的均勻混合,最終得到“高分散、高穩(wěn)定、低雜質(zhì)"的優(yōu)質(zhì)漿料。

圖5:PSI高壓微射流均質(zhì)機(jī)原理圖


相較于傳統(tǒng)設(shè)備,它在MLCC生產(chǎn)中的優(yōu)勢(shì)堪稱(chēng) “降維打擊":


  • 分散效率更高:傳統(tǒng)球磨機(jī)需數(shù)小時(shí)甚至數(shù)十小時(shí)的研磨,而高壓微射流均質(zhì)機(jī)僅需幾分鐘到幾十分鐘,大幅縮短生產(chǎn)周期;

  • 分散精度更優(yōu):可將顆粒粒徑控制在納米級(jí),且粒徑分布均勻(PDI 值更低),適配超薄介質(zhì)層MLCC的需求;

  • 產(chǎn)品穩(wěn)定性更強(qiáng):均質(zhì)后的漿料不易發(fā)生二次團(tuán)聚,減少生產(chǎn)過(guò)程中的批次差異,保障了穩(wěn)定性生產(chǎn);

  • 清潔性更優(yōu):設(shè)備內(nèi)部無(wú)機(jī)械磨損部件,避免了傳統(tǒng)研磨帶來(lái)的金屬雜質(zhì)污染,保障MLCC的電學(xué)性能。





三、未來(lái)可期:高壓微射流均質(zhì)機(jī)與 MLCC 行業(yè)的 “協(xié)同進(jìn)化"


當(dāng)前,MLCC行業(yè)正朝著 “更高容量、更低損耗、更高可靠性" 的方向快速發(fā)展,這也對(duì)高壓微射流均質(zhì)機(jī)提出了新的要求:一方面,設(shè)備需要適應(yīng)更大的生產(chǎn)規(guī)模(如連續(xù)化、自動(dòng)化生產(chǎn));另一方面,需進(jìn)一步提升壓力等級(jí)與微通道設(shè)計(jì)精度,以滿(mǎn)足更細(xì)顆粒、更復(fù)雜物料的分散需求。

為解決MLCC陶瓷漿料均一性與穩(wěn)定性的問(wèn)題,奧法美嘉也在加速技術(shù)突破,為MLCC行業(yè)提供一站式的設(shè)備解決方案。采用高壓微射流均質(zhì)機(jī)對(duì)MLCC陶瓷漿料進(jìn)行研磨分散處理。


圖6:PSI全系列產(chǎn)品線


品牌:意大利PSI,奧法美嘉公司代理

原理:高壓微射流均質(zhì)機(jī)通過(guò)電液傳動(dòng)的增壓器使物料在高壓作用下以極大的速度流經(jīng)固定幾何結(jié)構(gòu)均質(zhì)腔中的微管通道,物料流在此過(guò)程中受到超高剪切力、高碰撞力、空穴效應(yīng)等物理作用,使得平均粒徑降低,體系分散更加均一,由此獲得理想的均質(zhì)、分散或穩(wěn)定的結(jié)果。

應(yīng)用:廣泛應(yīng)用于電子、化工、電池、顏料、燃料、制藥、食品等行業(yè),在MLCC中主要對(duì)陶瓷漿料進(jìn)行分散,使陶瓷漿料更加均一穩(wěn)定,方便后續(xù)流延、印刷等工藝。

從手機(jī)里的小小電容,到新能源汽車(chē)的動(dòng)力控制系統(tǒng),MLCC的性能直接關(guān)系到電子設(shè)備的體驗(yàn)與安全。而高壓微射流均質(zhì)機(jī)這樣的“幕后設(shè)備",正是通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新,為MLCC的性能突破提供了堅(jiān)實(shí)支撐。

對(duì)于MLCC生產(chǎn)企業(yè)而言,選擇合適的高壓微射流均質(zhì)機(jī),不僅是提升生產(chǎn)效率的“選擇",更是搶占技術(shù)高地的“戰(zhàn)略布局"。相信在不久的將來(lái),隨著設(shè)備技術(shù)的持續(xù)迭代,我們將看到更多高性能、高可靠性的MLCC產(chǎn)品,為電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入新的活力。







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