Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀是專(zhuān)門(mén)用于測(cè)量納米級(jí)顆粒以及膠體樣品體系的粒度分析儀器，其測(cè)量范圍為 0.3 nm - 10 μm。Nicomp 380 已經(jīng)成為眾多研究人員和*科學(xué)家的。儀器所擁有*的基線調(diào)整自動(dòng)補(bǔ)償能力和高分辨率多模式算法，多年來(lái)不同領(lǐng)域的使用證明了它可以區(qū)分開(kāi)單峰樣本體系和無(wú)約束復(fù)雜多峰樣本體系，是研發(fā)的*選擇！Nicomp 380系列儀器是*在應(yīng)用動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的粒度儀?？纱钶d自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)、自動(dòng)稀釋系統(tǒng)、多角度探測(cè)及高濃度背光散射和在線監(jiān)測(cè)等模塊，隨著模塊的升級(jí)和增加， Nicomp 380 可以更快更的用于各種復(fù)雜樣品的檢測(cè)分析。

    該儀器結(jié)合了動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS），實(shí)現(xiàn)了同機(jī)測(cè)試亞微米粒子分布和ZETA電勢(shì)電位。ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來(lái)的一種新型光散射，它的光散射理論基礎(chǔ)是準(zhǔn)彈性碰撞理論，在實(shí)驗(yàn)時(shí)通過(guò)在樣品槽中外加一個(gè)外電場(chǎng)，帶電粒子即會(huì)以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動(dòng)，與之相應(yīng)的動(dòng)態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動(dòng)速度，因此由實(shí)驗(yàn)測(cè)得的譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而得到ζ-電位值。通過(guò)測(cè)試顆粒之間排斥力 ，判斷體系穩(wěn)定性的測(cè)量手段之一。并且配備靶電極，經(jīng)久耐用。

    Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀可廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥領(lǐng)域：乳劑，注射劑，脂質(zhì)體，膠體，混懸劑，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等；半導(dǎo)體領(lǐng)域： CMP Slurry，芯片，晶圓加工等；特殊化工品：墨水&噴墨，納米材料，化工染料，潤(rùn)滑劑，清洗劑等。